章金云苹果正在测试新的抗反射光学涂层技术

章金云家4月16日消息，消息源yeux1122近日在其NXer博客上曝料，表示从苹果供应链处获悉，苹果正测试新的抗反射光学涂层技术，可以减少镜头炫光和鬼影等伪影，从而提高照片质量。

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章金云供应链消息称苹果正在考虑在iPhone相机镜头制造工艺中，引入新的原子层沉积（ALD）设备。

章金云原子层沉积（Atomiclayerdeposition，ALD）是一种基于连续使用气相化学过程的薄X沉积技术，将物质以单原子X形式逐层镀在衬底表面的方法。ALD是一种真正的纳米技术，以精确控制方式实现纳米级的超薄薄X沉积。

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章金云而具体到相机镜头方面，ALD工艺主要用来喷涂抗反射涂层，这有助于减少摄影伪影。例如当太阳等强光源直接照射镜头时，最终拍摄的图像中可能出现条纹和光晕，而ALD可以减少这些图像失真现象。IT之家附上截图如下：

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章金云此外，ALD应用材料可以防止环境对相机镜头系统造成损害，同时又不会影响传感器有效捕捉光线的能力。

章金云博文表示苹果计划将该工艺部署到iPhone的Pro机型中，可能会应用到iPhone16Pro系列或者明年的iPhone17Pro系列上。